真空快速退火炉操作便捷，电热元件采用红外灯管，升温速度快，节省时间，滑动法兰使装卸样品过程简化，方便操作，可快速得到实验结果，取消了反复的法兰安装过程，减少了炉管因安装造成的损坏。

CVD管式炉设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产，CVD系统除了主要应用在碳纳米材料制备行业外，现在正在使用在许多行业，包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域。

PECVD系统配置：1.1200度开启式双温区真空管式炉2.等离子射频电源3.多路质量流量控制系统4.真空系统（可选配中真空或高真空）

RTP快速退火炉操作便捷，电热元件采用红外灯管，升温速度快，节省时间，滑动法兰使装卸样品过程简化，方便操作，可快速得到实验结果，取消了反复的法兰安装过程，减少了炉管因安装造成的损坏。

CVD管式炉设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产，CVD系统除了主要应用在碳纳米材料制备行业外，现在正在使用在许多行业，包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域。