1200℃滑动双温区PECVD系统
PECVD系统配置：1.1200度开启式双温区真空管式炉2.等离子射频电源3.多路质量流量控制系统4.真空系统（可选配中真空或高真空）
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更新时间：2025-02-27
厂商性质：生产厂家
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PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。
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PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。集成型PECVD系统PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系统PECVD-12IH-4Z/G
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