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1200℃滑动式单温区/双温区/三温区CVD系统
更新时间： 2024-10-28
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产品报价：
产品简介： 产品用途：此款CVD系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结真空淬火退火，快速降温等工艺实验。
详细资料：
1200℃滑动式单温区/双温区/三温区CVD系统产品用途：
此款CVD系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控
生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结真空淬火退火，快速降温等工艺实验。
产品组成：
CVD系统配置：
1、1200度开启式真空管式炉（可选配多温区）。
2、滑动系统分为手动、电动滑动，并配有风冷系统。
3、多路质量流量控制系统
4、真空系统（可选配中真空或高真空）
1200℃滑动式单温区/双温区/三温区CVD系统产品特点：
1、控制电路选用模糊PID程控技术，该技术控温精度高，热惯性小，温度不过冲，性能可靠，操作简单。
2、中真空系统具有真空度上下限自动控制功能，高真空系统采用高压强，耐冲击分子泵，防止意外漏气造成分子泵损坏，延长系统使用寿命。
3、(电动)滑动系统采用温度控制器自动控制炉体移动，等程序完成，炉体按设定的速度滑动，因有滑动限位功能炉体不会发生碰撞，待样品露出炉体后，通过风冷系统快速降温。
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