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产品用途:
此款CVD系统是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔
电极方面的研究,通过滑动炉实现快速加热和冷却。
产品组成:
CVD系统配置:
1.1200度开启式真空管式炉(可选配单温区及双温区)。
2.滑动系统分为手动、电动滑动,并配有风冷系统。
3.内外双石英管,采用真空可通气氛双法兰特殊连接。
4.多路气体流量控制系统(质子流量控制器和浮子流量控制器)
5.真空系统(可选配中真空或高真空)
产品特点:
产品*性
1 控制电路选用模糊PID程控技术,该技术控温精度高,热惯性小,温度不过冲,性能可靠,操作简单。
2中真空系统具有真空度上下限自动控制功能,高真空系统采用高压强,耐冲击分子泵,防止意外漏气造成分子泵损坏,延长系统使用寿命。
3 (电动)滑动系统采用温度控制器自动控制炉体移动,等程序完成,炉体按设定的速度滑动,因有滑动限位功能,炉体不会发生碰撞,待样品露出炉体后,通过风冷系统快速降温。
4 双管真空密封法兰,反应气体可以在内外管之间发生反应,冷却气体可通过内管,从而使内管外壁温度降低。
系统名称 | 1200℃双管滑动式单/多温区CVD系统 | |
系统型号 | CVD-12II6SH-3Z/G | CVD-12III9SH-3Z/G |
极限温度 | 1200℃ | |
加热区长度 | 610mm | 940mm |
恒温区长度 | 400mm | 700mm |
温区 | 双温区 | 三温区 |
石英管管径 | 内管:Φ80mm 外管:Φ100mm | |
额定功率 | 4.8Kw | 7.2Kw |
额定电压 | 220V | 380V(三相) |
滑动距离 | 485mm | 650mm |
滑动方式 | 手动滑动/自动滑动(由温度控制器自动控制移动,当程序完成,炉子按设定的速度滑动) | |
温度控制 | 国产程序控温系统50段程序控温; | |
控制精度 | ±1℃ | |
炉管极限工作温度 | <1200℃ | |
双管法兰连接 | 采用双法兰双卡箍连接可扩展多功能,并且分别独立对内管和外管进行真空和气体流量控制.密封法兰与管件连接的地方采用多环密封技术,在密封法兰与管外壁间形成了密封,在管件外径误差较大的情况下密封仍然有效,该密封法兰的安装只需在*使用设备的时候安装 | |
气体控制方式 | 质量流量计 | |
气路数量 | 3路(可根据具体需要选配气路数量) | |
流量范围 | 0-500sccm(标准毫升/分,可选配)氮气标定 | |
精度 | ±1%F.S | |
响应时间 | ≤4sec | |
工作温度 | 5-45℃ | |
工作压力 | 进气压力0.05-0.3Mpa(表压力) | |
系统连接方式 | 采用KF快速连接波纹管、高真空手动挡板阀及数显真空测量仪 | |
规格 | 高真空 | |
系统真空范围 | 1x10-3Pa-1x10-1Pa | |
真空泵 | 真空分子泵理论极限真空度 | |
炉体外形尺寸 | 480×770×605mm | 410×1100×605mm |
系统外形尺寸 | 530×1440×750mm(不含高真空) | |
系统总重量 | 340Kg |
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