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1200℃预加热滑动双温区PECVD系统时间：2024-05-09生产地址：天津厂商性质：生产厂家浏览量：21266PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。
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RTP-小型快速退火炉时间：2024-05-09生产地址：天津厂商性质：生产厂家浏览量：6498产品应用：该电炉采用红外灯管加热，通过滑动炉体实现快速降温。应用于半导体或太阳能电池基片退火。也可用于快速热退火、快速热氧化、快速热氮化、硅化物合金退火、电极合金化、氧化物生长、离子注入后退火、薄膜沉积等工艺试验 。
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1200℃滑动式单温区/双温区/三温区CVD系统时间：2024-05-09生产地址：天津厂商性质：生产厂家浏览量：4830产品用途：此款CVD系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结真空淬火退火，快速降温等工艺实验。
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1200℃双管滑动式单温区/多温区CVD系统时间：2024-05-09生产地址：天津厂商性质：生产厂家浏览量：5145
产品用途：此款CVD系统是专门为在金属箔上生长薄膜而设计，特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究，通过滑动炉实现快速加热和冷却。
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1200℃集成型自动小型PECVD系统时间：2024-05-09生产地址：天津厂商性质：生产厂家浏览量：5010PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。集成型PECVD系统PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系统PECVD-12IH-4Z/G
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