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详述RTP快速退火炉应用领域和结构特点
发布时间:2016-09-17 点击次数:691次
   RTP快速退火炉可用于砷化镓、硅以及其他半导体材料,离子注入后的退火、硅化物的形成、欧姆接触制备以及快速氧化、快速氮化等方面。RTP快速退火炉,快速热处理设备(RTP)具有快速升降温、慢速升降温、和长工作时间稳定等特点。也可用于各种半导体材料的CVD工艺的热处理。

  RTP快速退火炉用于半导体器件研发及生产等领域,可满足离子注入后的快速退火、欧姆接触快速合金、硅化物合金退火,氧化物生长以及铜铟镓硒光伏应用中的硒沉积等快速热处理工艺场合。

  RTP快速退火炉应用领域:

  1.离子注入/接触退火;

  2.快速热处理(RTP),快速退火(RTA),快速热氧化(RTO),快速热氮化(RTN);

  3.RTP快速退火炉可在真空、惰性气氛、氧气、氢气、混合气等不同环境下使用;

  4.SiAu, SiAl, SiMo合金化;

  5.低介电材料;晶体化,致密化;

  6.太阳能电池片键合;

  RTP快速退火炉结构特点:

  炉膛采用进口多晶纤维真空吸附制成,采用进口红外线加热管加热,使用寿命可达5000小时,升温速度快,zui高温度可达1050℃。

  炉管可自由移动,且密封法兰之间用搭扣压紧连接,放、取物料方便快捷,避免了螺栓密封人为操作导致漏气的可能;减少了因安装法兰而造成加热管损坏的可能;当炉管移出炉膛时冷确风扇启动,可实现试样的迅速降温,满足材料骤冷骤热的实验要求;

  RTP快速退火炉预留了真空、气路快速接口,可配合我司真空系统、混气系统使用;预留了485转换接口,可通过我司专用软件,与计算机互联,可实现单台或者多台电炉的远程控制、实时追踪、历史记录、输出报表等功能;

  RTP快速退火炉设置超温报警并断电,漏电保护,操作安全可靠。


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