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CVD管式炉的构成和应用范围
发布时间:点击次数:1650 发布时间:2017-07-12次
  CVD管式炉是由:开启式真空管式炉、气体流量计、真空泵三部分构成。 广泛用于:真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。该系统技术成熟、质量可靠;设备操作采用全数控触摸界面,丰富的图形界面提示,使得设备的操作异常简单、方便;设备的各项技术参数更是一目了然,设备的运行状态尽在您的掌控之中。该系统是材料实验室必备的理想设备之一。

  CVD管式炉采用双层壳体结构,并带有风冷系统,使得壳体表面温度小于55℃.内内炉膛表面涂有1750℃进口氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度 。真空密封系统有两个不锈钢密封法兰,zui大漏气率6 mtorr/min。采用双旋机械泵,可以过滤真空泵工作时产生的油烟,减少泵油的损耗,保护环境和人体健康,过滤的zui小微粒直径为0.3微米。极限真空度≤6x10-2 Pa or 4x10-4 torr

  CVD管式炉有四路供气系统 可以用于控制一种到四种的气体流经真空密封的管式炉,这种气体控制系统安装在移动架上,管式炉可以放在上面,气体控制系统的前面板上有控制并显示气体流量的调节阀。结合管式炉,它可以用于CVD系统及退火炉,用来研究气体环境对材料的影响。

  CVD管式炉的应用范围

    CVD管式炉广泛适用于高、中、低温CVD工艺,例如:碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等;也可适用于金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛下热处理. 产品特点: 高温CVD系列管式炉专门设计用于高温材料沉积之用。 硅钼棒加热、刚玉炉管炉膛, 可预抽真空,便于通入参加反应的气体,进口单回路智能温度控制仪控制、温区设计隔板结构。具有温度均匀、控制稳定、温区间温度扰动小、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点,是理想的科研设备。

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