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CVD管式炉应用及其特点
更新时间：2024-03-29 点击次数：8471
CVD管式炉设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产，CVD系统除了主要应用在碳纳米材料制备行业外，现在正在使用在许多行业，包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域。
应用领域：
CVD系列真空气氛管式炉广泛适用于高、中、低温CVD工艺。
例如：碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等；也可适用于金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛下热处理。
CVD管式炉主要特点：
1.采用高纯石英管或刚玉管作为内炉膛。
2.可拆卸式的三面密封方式，具有良好的洁净度和真空度；耐火，保温材料全部采用的轻质纤维制品，整机质量轻、能耗低；加热元件采用U型硅铝(碳)棒或*电阻丝；
3.CVD系列真空气氛管式炉温控系统采用进口多段智能程序温度控制仪控制，温度控制具有良好的稳定性、重复性。
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