CVD管式炉的应用领域以及特点
更新时间：2020-01-03 点击次数：7703
CVD管式炉应用领域：
广泛适用于高、中、低温CVD工艺，例如：碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等;也可适用于金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛下热处理.
产品特点：
专门设计用于高温材料沉积之用。 硅钼棒加热、刚玉炉管炉膛, 可预抽真空,便于通入参加反应的气体， CVD管式炉进口单回路智能温度控制仪控制、温区设计隔板结构。具有温度均匀、控制稳定、温区间温度扰动孝升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点，是理想的科研设备。
1、外观采用耐高温、耐腐蚀油漆处理。
2、控制台采用智能PID数显控制器、稳定性好、精度高，配有电流表、结构新颖。
3、炉门采用加厚、加固处理，防止变形
4、炉衬采用高纯氧化铝和保温棉，保温效果好
5、炉膛温度时时检测功能(不加热情况下同样显示炉膛实际温度，便于随时观察炉膛温度情况)。具有过载保护和短路保护
6、炉壳选用钢板折边焊接制成，工作室为耐火材料制成的炉膛，加热元件置于其中，炉与壳间用保温材料砌筑。
