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  • CVD系统

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    CVD系统该系列产品系周期作业,供企业实验室,大专院校,科研院所等单位选用,设备为用户提供具体真空、可控气氛及高温的实验环境,应用在半导体,纳米技术,碳纤维等新材料新工艺领域。
  • 真空CVD系统
    真空CVD系统高温管式炉和高真空组合系统。炉体采用硅钼棒加热Z高温度可至1700℃,高真空系统采用进口分子泵机组,一键操作,简洁方便,无噪音。系统通过标准配件连接,全部采用不锈钢材料,电抛光处理。其广泛应用于荧光粉材料,金属材料,磁性材料,半导体材料,陶瓷材料,电化学,薄膜材料,CVD,石墨烯,硅纳米管,纳米线,等研究领域。
  • CVD石墨烯炉
    CVD石墨烯炉炉底安装一对滑轨,可用手动滑动。加热和冷却速率Z大可达100°C/m。为取得Z快加热,可以预先加热炉子到设定的温度,然后移动炉子到样品位置。为获得Z快冷却,可在样品加热后移动炉子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到10°C/s,是低成本快速热处理的理想炉子。

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