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产品图片 产品名称/型号 产品描述
  • 1200℃双管滑动式单温区/多温区CVD系统
    产品用途:此款CVD系统是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究,通过滑动炉实现快速加热和冷却。
  • 1200℃预加热滑动双温区PECVD系统
    PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。
  • 高真空扩散泵控制系统
    操作便捷性:抽气口及气路连接口采用KF式快速连接结构。简化安装过程,只需用卡箍便可完成连接,方便操作。
  • RTP-小型快速退火炉
    产品应用:该电炉采用红外灯管加热,通过滑动炉体实现快速降温。应用于半导体或太阳能电池基片退火。也可用于快速热退火、快速热氧化、快速热氮化、硅化物合金退火、电极合金化、氧化物生长、离子注入后退火、薄膜沉积等工艺试验。
  • 1200℃滑动双温区PECVD系统
    款PECVD系统配置:1.1200度开启式双温区真空管式炉2.等离子射频电源3.多路质量流量控制系统4.真空系统(可选配中真空或高真空)
  • RTP快速退火炉
    RTP快速退火炉操作便捷,快速退火炉电热元件采用红外灯管,升温速度快,节省时间,滑动法兰使装卸样品过程简化,方便操作,可快速得到实验结果,取消了反复的法兰安装过程,减少了炉管因安装造成的损坏。

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