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多功能模块化CVD系统｜二维材料、薄膜、晶体材料制备一站式解决方案
CVD系统-产品介绍:滑动式CVD设备_1200℃_单/双/多温区
此款设备是一套化学气相沉积生长系统，可包含加热系统、控温系统、滑动装置、质量气体流量控制、真空控制系统、预加热系统等模块，根据工艺要求多模块自由组合，并可扩展升级配置，节约成本。适用于多种经典化学气相沉积工艺。
CVD系统-产品用途:
可用于二维材料制备、石墨烯生长、TMDs 材料制备、二硫化钼制备、薄膜材料制备、氧化物薄膜、碳化物薄膜、氮化物薄膜、金刚石薄膜、金属涂层、碳纳米管生长、ZnO 纳米结构生长、新晶体材料、陶瓷纤维制备； 陶瓷电容气氛烧结、粉体材料气氛烧结、非晶态合金生长。
产品组成：
此款CVD系统配置：
1.1200度开启式真空管式炉(可选配滑动/双管)
2.手动、电动滑动系统
3.多路质量流量控制系统
4.真空控制系统(可选配中真空或高真空)
滑动式CVD设备_1200℃_单/双/多温区 产品参数：
系统名称 | 1200℃(含滑动式)单/多温区CVD系统 | |||
系统型号 | CVD-12I-3Z/G | CVD-12IIH-3Z/G | CVD-Y12IIH-3Z/G | CVD-12IIIH-3Z/G |
最高温度 | 1200℃ | |||
加热区长度 | 420mm | 655mm | ||
恒温区长度 | 200mm | 500mm | ||
温区 | 单温区 | 双温区 | 三温区 | |
石英管管径 | ①50/Φ60/Φ80/Φ100mm | |||
额定功率 | 3Kw | 3.2Kw | 4.8Kw | |
额定电压 | 220V | 380V | ||
滑动距离 | 380mm(≥500) | 500mm(≥800) | ||
滑动方式 | 手动滑动/自动滑动(由温度控制器自动控制移动。当程序完成，炉子按设定的速度滑动) | |||
温度控制 | 国产程序控温系统50段程序控温 | |||
控制精度 | ±1℃ | |||
长期工作温度 | ≤1100℃ | |||
气路法兰 | 采用多环密封技术卡箍快速连接 | |||
排风冷却装置 | 先进的空气隔热技术，结合热感应技术，当炉体表面温升到50℃时，排温风扇将自动启动，使炉体表面快速降温 | |||
气体控制方式 | 质量流量计(按键式) | |||
气路数量 | 1～3路(可根据具体需要选配气路数量 ) | |||
流量范围 | 0-500sccm(标准毫升/分，可选配)氮气标定 | |||
精度 | ±1%F.S | |||
响应时间 | 1sec | |||
工作温度(流量计) | 5-45℃ | |||
工作压力 | 进气压力0.05-0.3Mpa(表压力) | |||
进气方式 | 采用防倒流设计 | |||
规格 | 中真空 | 高真空 | ||
系统真空范围 | 10-100Pa | 10-1x10-3Pa | ||
真空泵 | 双极机械泵理论极限真空度3x10-1Pa,抽泣速率4L/S (选配：其它抽速真空泵),出气口配有油雾过滤器， 额定电压220V,功率0.55Kw | 真空分子泵理论极限真空度 5x10-6Pa,抽泣速率1200L/S(选配： 其它抽速真空泵),出气口配有油雾 过滤器，额定电压220V,功率2Kw | 真空分子泵理论极限真空度 5x10-6Pa,抽泣速率1600L/S(选配： 其它抽速真空泵),出气口配有油雾 过滤器，额定电压220V,功率2Kw | |
炉体外形尺寸 | 360×580×555mm | 360×815×555mm | ||
系统外形尺寸 | 530×1440×750mm | 530×1740×750mm | 530×1740×750mm | |
系统总重量 | 230Kg | 290Kg | 330Kg | |
