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石墨烯管式炉

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所属分类:1200℃真空气氛管式电炉
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石墨烯管式炉专门设计用于高、中、低温CVD和石墨烯工艺。如ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器(MLCC)气氛烧结等等。 窑炉采用氧化铝纤维制品隔热、保温,进口Kanthal电阻丝加热,优质刚玉管炉膛,系统可预抽真空,可带气体采用浮子流量计控制。有效的实现温度的控制。设备具有温度均匀、控制稳定、升温速度

石墨烯管式炉产品概述:

1200℃三/多温区CVD系统

产品应用

此款CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。

产品组成:

此款CVD系统配置:

1.1200度开启式真空管式炉(可选配多温区)。

2.多路质量流量控制系统

3.真空系统(可选配中真空或高真空)     

产品特点:

1 控制电路选用模糊PID程控技术,该技术控温精度高,热惯性小,温度不过冲,性能可靠,操作简单。

2 气路快速连接法兰结构采用本公司独有的知识产权设计,提高操作便捷性。

3 中真空系统具有真空度上下限自动控制功能,高真空系统采用高压强耐冲击

分子泵防止意外漏气造成分子泵损坏,延长系统使用寿命。

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