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真空CVD系统

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所属分类:CVD系统
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真空CVD系统高温管式炉和高真空组合系统。炉体采用硅钼棒加热Z高温度可至1700℃,高真空系统采用进口分子泵机组,一键操作,简洁方便,无噪音。系统通过标准配件连接,全部采用不锈钢材料,电抛光处理。其广泛应用于荧光粉材料,金属材料,磁性材料,半导体材料,陶瓷材料,电化学,薄膜材料,CVD,石墨烯,硅纳米管,纳米线,等研究领域。

真空CVD系统产品概述:

 真空CVD系统高温管式炉和高真空组合系统。炉体采用硅钼棒加热zui高温度可至1700℃,高真空系统采用进口分子泵机组,一键操作,简洁方便,无噪音。系统通过标准配件连接,全部采用不锈钢材料,电抛光处理。其广泛应用于荧光粉材料,金属材料,磁性材料,半导体材料,陶瓷材料,电化学,薄膜材料,CVD,石墨烯,硅纳米管,纳米线,等研究领域。

 

产品名称

高真空CVD控制系统

产品型号

ZX-03A(扩散泵)

ZX-04A(分子泵)

使用真空范围

1X10^-2Pa-1X10^1Pa

1X10^-3Pa-1X10^1Pa

真空规管

热偶规管、电离规管

控制方式

自动控制

载重量

150Kg

工作电源

AC220V±5% 50Hz

真空泵参数

双极真空泵理论极限真空度 0.6Pa(6X10^-1Pa ),抽气速率4L/S,额定电压220V 功率0.55KW

分子真空泵理论极限真空度 0.0000006Pa(6X10^-7Pa),抽气速率160L/S,额定电压220V 功率2KW

扩散真空泵理论极限真空度 0.0000006Pa(6X10^-3Pa),抽气速率160L/S,额定电压220V 功率2KW

外形尺寸(深x宽x高)

600x6500x1080mm

600x6500x1050mm

重量

170Kg

150Kg

标准配置

真空规管2支,波纹管1支,KF卡箍4个,四通1个,高真空手动挡板阀1个

质量保证

整机保修1年,不包含真空规管

配套产品

SK系列真空/气氛管式电炉、SX系列真空/气氛箱式电炉、真空规管、气体流量控制柜

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