CVD管式炉应用领域：广泛适用于高、中、低温CVD工艺，例如：碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等;也可适用于金属材料的扩展焊接以及真空或保护气氛下热处理.产品特点：专门设计用于高温材料沉积之用。硅钼棒加热、刚玉炉管炉膛,可预抽真空,便于通入参加反应的气体，CVD管式炉进口单回路智能温度控制仪控制、温区设计隔板结构。具有温度均匀、控制稳定、温区间温度扰动孝升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点，是理想的科研设备。1、外观采用耐高温、耐腐蚀油漆处理。...

真空气氛炉又名无氧退火炉、真空气氛烧结炉等物体在通入一定气体的炉膛内进行烧结的方法。不同的材料选择适宜的气氛烧结，有助于烧结过程，提高制品致密化程度、获得良好的性能的制品。真空气氛高温炉由炉体、加热室、真空系统、充放气系统、风冷循环系统、电控系统、气动系统，水冷系统及料车组成。真空气氛炉一般在春秋季节泄漏故障较多，闲置的真空炉在才次使用时真空炉泄漏故障比较易发生。下面分享一些真空气氛炉常见的故障以及排除方法：1.在高温试验中，如温度变化达不到试验温度值时，可以检查电器系统，逐...

旋转管式炉旋转管式炉是一种轻体化连续式电炉，广泛应用于化工粉末、颗粒等产品的快速烧成，具有烧成周期短、劳动强度低等优点。主要运用于粉末颗粒，化工，纳米稀土石墨烯，耐材，锂电正负极材料，新能源等行业测定材料在一定气氛条件下的设备。如果您需要保持物料的单颗粒结构(如在干燥或煅烧物料时)，旋转管式炉是您的选择。持续不断的管旋转运动和保护气的应用将为您带来*的处理结果。旋转管式炉结构1、外壳炉壳主要采用钢板与型材焊接而成，进料口用精加工件与硅橡硅密封，外壳并装有可装卸防护板，防护板采...

真空快速退火炉，主要适用于不锈钢拉深件如水暖器材、水胀件、销、医疗器械、不锈钢钉、不锈钢镙丝、压铆件、不锈钢轴承、表壳、表带、刀具、微型轴、自攻自钻、餐具等不锈钢制品在保护气氛控制下进行连续光亮退火、固溶、退磁及不锈钢淬火处理的多用炉真空快速退火炉设备用途主要适用于不锈钢拉深件如水暖器材、水胀件、销、医疗器械、不锈钢钉、不锈钢镙丝、压铆件、不锈钢轴承、表壳、表带、刀具、微型轴、自攻自钻、餐具等不锈钢制品在保护气氛控制下进行连续光亮退火、固溶、退磁及不锈钢淬火处理的多用炉。处理...

随着现在工业技术的发展，使得各行各业企业开始抛弃传统的设备，在传统工业中燃料的发展已经逐渐被电炉取代，现在电炉的应用范围也是越来越广。如今，电阻炉设备已经扩展到家庭、医药等多个领域，也是的现在工业技术飞速发展起来。箱式真空气氛炉适用于工矿企业、大专院校、科研院所及实验室作真空或气氛状态下烧结各种新材料样品用。可供化学分析、物理测定以及金属、陶瓷的烧结和熔解、小型钢件等加热、焙烧、烘干、热处理用。气氛炉是一种实验设备，适用于金属、纳米、单晶硅、多晶硅、电池等的扩散焊接以及真空气...

立式高温管式炉采用进口氧化铝多晶体纤维固化炉膛，保温性能好，电阻丝加热，采用智能化程序控温系统，可抽真空，通气氛。外形美观大方、结构设计合理，使用方便，安全可靠。主要用途和适用范围：高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等实验。主要功能和特点：1、高温石英管/刚玉管/合金管，*的连接方式，可以通入各种不同的保护气氛;2、炉膛采用进口氧化铝多晶纤维材料，保温性能好，耐用，拉伸强度高，无杂球，纯度高，节能效果明显;3、加热元件采用合金丝0Cr27A...

CVD系统设备由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气源控制备件等部分组成亦可根据用户需要设计生产，CVD系统除了主要应用在碳纳米材料制备行业外，现在正在使用在许多行业，包括纳米电子学、半导体、光电工程的研发、涂料等领域实验机理：CVD成长系统是利用气态化合物或化合物的混合物在基体受热面上发生化学反应，从而在基体表面上生成不挥发涂层的一种薄膜材料制备系统CVD系统产品的特点：1CVD系统兼容、常压、微正压多种主流的生长模式2CVD系统可以在1000Pa-0.1Pa之间任意...

坩埚炉集控制系统与炉膛一体，其中炉膛保温材料采用整体真空吸附成型，程控镶嵌进口电阻丝。超大口径的石英炉腔和真空密封法兰系统，可在流动气氛和真空状态下快速加热样品。主要用于金属、非金属及化合物材料进行烧结、融化、分析。控制面板配有智能温度调节仪，控制电源开关、主加热工作/停止按钮，以便随时观察。坩埚炉的安装与固定：(1)安装燃气或燃油炉用坩埚：先将坩埚放置在底座上，在坩埚与炉壁顶部之间预留一定的坩埚膨胀空间使用木块、硬纸板等材料加以固定。调整燃烧器和喷嘴的位置，使火焰对准燃烧室...