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CVD系统

点击次数:2091    发布时间:2013-07-04

天津中环高真空CVD系统电炉是一家集研发、生产制造、营销服务为一体的专业的实验室电炉工作系统解决方案的提供者。作为专业实验室电加热设备的生产厂家,在实验室电炉行业国内市场一直保持着地位,并成为*品牌。

通过公司技术人员的开发,zui近研制出多套CVD系统,高真空CVD系统在碳纳米材料,真空镀膜领域广泛使用,PE获得客户广泛好评。

CVD系统产品的特点:
1 CVD
系统兼容、常压、微正压多种主流的生长模式
2 CVD
系统可以在1000Pa-0.1Pa之间任意气压下进行石墨烯的生长
3 CVD
系统使用计算机控制,可以设置多种生长参数
4 CVD
系统可以制备高质量,大面积石墨烯等碳材料,尺寸可达数厘米,研究动力学过程
5 CVD
系统沉积效率高;薄膜的成分可控,配比范围大;厚度范围广,由几百埃至数毫米,可以实现厚膜沉积且能大量生产

 

佛炉

  

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