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1200℃双温区PECVD系统

型    号:PECVD-12II-3Z/G
所属分类:PECVD系统
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此款PECVD系统配置:
1.1200度开启式双温区真空管式炉
2.等离子射频电源
3.多路质量流量控制系统
4.真空系统(可选配中真空或高真空)

1200℃双温区PECVD系统产品概述:

1200℃双温区PECVD系统

产品应用:
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。
产品组成:
此款PECVD系统配置:
1.1200度开启式双温区真空管式炉
2.等离子射频电源
3.多路质量流量控制系统
4.真空系统(可选配中真空或高真空)  
PECVD系统产品特点:
生长温度低;沉积速率快;成膜质量好,适用范围广,设备简单。
 

 

系统名称

1200℃双温区PECVD系统

系统型号

PECVD-12II-3Z/G

PECVD-12II6-3Z/G

zui高温度

1200℃

加热区长度

420mm

610mm

恒温区长度

280mm

400mm

温区

双温区

双温区

石英管管径

Φ50/Φ60/Φ80

Φ80/Φ100

额定功率

3.2Kw

4.8Kw

额定电压

220V

220V

温度控制

国产程序控温系统50段程序控温;

控制精度

±1℃

炉管zui高工作温度

<1200℃

气路法兰

本实用新型在密封法兰与管件连接的地方采用多环密封技术,在密封法兰与管外壁间形成了密封,在管件外径误差较大的情况下密封仍然有效,该密封法兰的安装只需在*次使用设备的时候安装

气体控制方式

质量流量计

气路数量

3路(可根据具体需要选配气路数量)

流量范围

0-500sccm(标准毫升/分,可选配)氮气标定

精度

±1%F.S

响应时间

≤4sec

工作温度

5-45℃

工作压力

进气压力0.05-0.3Mpa(表压力)

系统连接方式

采用KF快速连接波纹管、高真空手动挡板阀及数显真空测量仪

规格

中真空

高真空

系统真空范围

10Pa-100Pa

1x10-3Pa-1x10-1Pa

真空泵

双极机械泵理论极限真空度1x10-1Pa,抽气速率4L/S,出气口配有油污过滤器,额定电压220V,功率0.55Kw

真空分子泵理论极限真空度
1x10-4Pa抽气速率160L/S
额定电压220V 功率2Kw

信号频率

13.56MHz±005%

功率输出范围

5W-500W

zui大反射功率

200W

射频输出接口

50Ω,N-type,temale

功率稳定度

±0.1%

谐波分量

≤-50dbc

供电电压

单相交流(187V-253V)频率50/60HZ

整机功率

≥70%

屏幕显示

正方向功率,匹配器电容位置,偏置电压值

炉体外形尺寸

340×580×555mm

480×770×605mm

系统外形尺寸

530*2310*750mm

530*2310*750mm(不含高真空)

系统总重量

270kg

350kg

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