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真空气氛箱式炉性能优异,应用广泛News

真空气氛箱式炉性能优异,应用广泛
发布时间:2016-06-08 点击次数:565次
真空气氛箱式炉以1700型硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和30或50段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用1700型氧化铝多晶纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,采用外壳整体密封、盖板和炉门密封采用高温硅胶板、炉门口安装有水冷系统,气体经过流量计后由后膛进入,并有多处洗炉膛进气口,出气口处有燃烧嘴,可以通氩气、氮气等气体,也可充入气体含量低于5%的氢气,并能预抽真空,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
 
真空气氛箱式炉额定温度分别为1100℃、1400℃、1500℃、1650℃,根据不同的气氛,不同的温度,使用不同的加热元件,型号齐全,安全可靠,同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。真空气氛箱式炉的成套供应范围有温度控制器、流量计、减压阀、热电偶、补偿导线等。温度控制采用可控硅控制,40段PlD可编程温度自动控制,具有超温报警等保护功能,严格控制产品的烧制过程。
 
真空气氛箱式炉特点
均匀气氛+节能+均匀的炉温。
选择气氛:抽真空,氢气、氨分解气、氮气、氩气、氧气。
铝泊突爆口安全设计。使用安全。
按不同的温度,不同的气氛,采用不同的加热元件(0Cr27Al5Mo2、硅碳棒、硅钼棒、高温钼丝等)。可编程序温度控制,多达40段曲线。水冷却炉门,优良的气密性 。
 

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